11月1日上午，公司杰出员工、清华大学张文征教授莅临材料科学楼404为公司师生带来一场题为“相变形成的择优界面”的学术报告。公司师生积极参加了此次报告。

报告中，张文征教授以界面结构的奇异性作为择优界面的普适判据，通过实例介绍了正空间和倒易空间识别和分析择优界面的基本原则、简便方法，提出了一种预测金属中化合物沉淀相择优界面的计算方法，并简要介绍了相关理论基础。报告尾声，张教授与公司师生就相关问题进行了深入的交流和探讨。

张文征教授，本科毕业于williamhill官网（75级金相与热处理专业），是williamhill中国官方网站杰出员工；随后在北京科技大学和加拿大McMaster大学分别获得硕士学位和博士学位。张文征目前任清华大学教授，长期从事固态相变和晶间界面研究，对相变组织晶体学形貌的定量积累了深入的认识。发表SCI收录论文100余篇，多次应邀在国内外学术会议上做报告，是国际公认的界面晶体学和固态相变专家。学术兼职包括中国物理学会第九届固体缺陷专业委员会委员，ASM/TMS相变委员会成员，国际期刊Metallurgical and Materials Transactions评审委员会成员，金属学报编委会成员。她主持了多个国家自然科学基金面上项目，参与了3个国家重点基础研究发展规划项目(973)。张文征教授被三千多清华大学本科生选为“良师益友”，培养和影响了一大批固态相变和晶体学人才。